Patentgesetz. PatG Gebrauchsmustergesetz, Patentkostengesetz
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- Deutsch ausgewählt
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Auflage:12. neubearbeitete Auflage
245,70 €
inkl. gesetzl. MwSt.,
Beschreibung
Produktdetails
Einband
Gebundene Ausgabe
Erscheinungsdatum
29.06.2023
Herausgeber
Klaus BacherVerlag
C.H. BeckSeitenzahl
2501
Maße (L/B/H)
24,6/17,2/6,9 cm
Gewicht
2124 g
Auflage
12. neubearbeitete Auflage
Sprache
Deutsch
ISBN
978-3-406-72789-4
Dieser Klassiker ist der führende und für die Meinungsbildung unverzichtbare patenrechtliche Kommentar - nicht nur dank seiner traditionellen Nähe zur Rechtsprechung des BGH. Bezüge insbesondere zum Europäischen Patentübereinkommen (EPÜ), zum internationalen und zum ausländischen Recht werden, wo nötig, stets hergestellt.
Vorteile auf einen Blick
- Erläuterung durch erfahrene Praktikerinnen und Praktiker
- Gründliche Darstellung nach deutschem Kommentarstandard
- Mitbehandlung des Gebrauchsmustergesetzes
Zur Neuauflage
Die Neuauflage berücksichtigt die aktuellen Entwicklungen in Rechtsprechung und Gesetzgebung und wird sowohl in wissenschaftlicher Hinsicht als auch in ihrem Praxisbezug höchsten Ansprüchen gerecht.
Behandelt werden etwa Fragen zur Lizenzierung standardessenzieller Patente (SEP) sowie zum Europäischen Patent mit einheitlicher Wirkung (EPeW) und dem Einheitlichen Patentgericht (EPG).
Ebenfalls enthalten sind die Änderungen aufgrund des Zweiten Gesetzes zur Vereinfachung und Modernisierung des Patentrechts, wie insbesondere die Neuregelung des patentrechtlichen Unterlassungsanspruchs.
Zielgruppe
Für Rechts- und Patentanwaltschaft, Unternehmen, Gerichte, Studium, Referendariat und sonstige Auszubildende in Rechts- und Patentanwaltskanzleien sowie in Behörden.
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