Dielectric and Work Function Engineered Doping-Less Tunnel FET Subthreshold Modeling, Simulation and Analysis
-
- Englisch ausgewählt
59,99 €
UVP
74,00 €
inkl. gesetzl. MwSt.,
Beschreibung
Produktdetails
Einband
Taschenbuch
Erscheinungsdatum
10.08.2020
Verlag
LAP LAMBERT Academic PublishingSeitenzahl
200
Maße (L/B/H)
22/15/1,3 cm
Gewicht
316 g
Sprache
Englisch
ISBN
978-620-2-67203-0
The perpetual downscaling of devices has achieved higher packaging density and faster switching performance. As the physical dimensions of FET device are scaled down consistently, many undesirable Short Channel Effects (SCEs) and subthreshold leakage current becomes more dominant and deteriorates the performance of the devices. The major driving force for the proposed book is to overcome all these above limitations with advancements in the materials science and semiconductor industry. Doping-Less Tunnel FET's (Junctionless Tunnel FET - JLTFET) have evolved as the most gratifying candidate. The absence of gradient doping concentration makes the fabrication process much simpler and offers low thermal budget. The high-K gate stack engineered device overcomes the SCEs caused by the ultrathin silicon devices. This book is designed to formulate a subthreshold model for Dual Metal Dielectric Engineered Doping-Less Tunnel FET by solving a two-dimensional Poisson's equation using Parabolic approximation method. Also, the impact of different high-K gate oxide materials with Silicon dioxide is also studied using TCAD Sentaurus device simulator.
Noch keine Bewertungen vorhanden
Verfassen Sie die erste Bewertung zu diesem Artikel
Helfen Sie anderen Kundinnen und Kunden durch Ihre Meinung.
Kurze Frage zu unserer Seite
Vielen Dank für Ihr Feedback
Wir nutzen Ihr Feedback, um unsere Produktseiten zu verbessern. Bitte haben Sie Verständnis, dass wir Ihnen keine Rückmeldung geben können. Falls Sie Kontakt mit uns aufnehmen möchten, können Sie sich aber gerne an unseren Kund*innenservice wenden.
zum Kundenservice