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Produktbild: Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films
- 12%

Modeling of Chemical Vapor Deposition of Tungsten Films

Aus der Reihe Progress in Numerical Simulation for Microelectronics
12% sparen

47,99 € UVP 54,99 €

inkl. gesetzl. MwSt., Versandkostenfrei

Beschreibung

Produktdetails

Einband

Taschenbuch

Erscheinungsdatum

20.11.2013

Abbildungen

139 p.

Verlag

Springer Basel

Seitenzahl

139

Maße (L/B/H)

22,9/15,2/0,8 cm

Gewicht

215 g

Sprache

Englisch

ISBN

978-3-0348-7743-5

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Einband

Taschenbuch

Erscheinungsdatum

20.11.2013

Abbildungen

139 p.

Verlag

Springer Basel

Seitenzahl

139

Maße (L/B/H)

22,9/15,2/0,8 cm

Gewicht

215 g

Sprache

Englisch

ISBN

978-3-0348-7743-5

Herstelleradresse

Springer-Verlag GmbH
Tiergartenstr. 17
69121 Heidelberg
DE

Email: ProductSafety@springernature.com

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  • Principal Symbols.- 1 Introduction.- 2 Mathematical models for chemical vapor deposition.- 3 Thermal modeling.- 4 Blanket tungsten deposition.- 5 Selective tungsten deposition.- 6 Conclusions.